| 摘要 |
本发明是针对一用以制造一层面平行结构(一板状体或片体)的方法，该结构包含至少一介电层，该介电层是由一周期表第3–15族元素之一或数个氧化物所组成，该方法系包含下列步骤：(a)将一该介电材料薄膜施加于一可挠性输送带上，该施加是令输送带通过一包含一氟捕捉剂及一或数个所欲涂层前驱含氟金属错合物之水性溶液；然后由该溶液被引入微波照射来将该金属氧化物沉积至该可挠性输送带上，其中步骤(a)可以由使用不同的含氟金属错合物进行选择性重复施行来产生一或数个金属氧化物层或一于厚度中具有两不同金属氧化物浓度之梯度；(b)自该可挠性输送带分离所产生有如层面平行结构之层体。 |
