三维奈微米结构制作装置与方法

摘要

本发明提供一种用以制造三维奈微米结构之装置与方法，该装置包含：一雷射光源，用以产生一雷射光束；一分光系统，用以将该雷射光束分为至少一第一光束与一第二光束；一聚焦透镜，用以会聚该第一光束与该第二光束，其中该第一光束与该第二光束系会聚于该聚焦透镜之焦点处，并于该焦点处形成一干涉图谱；以及一基材平台，用以承载一基材，该基材中系至少包含复数之第一奈微米粒子与复数之第二奈微米粒子。该等奈微米粒子系对应该干涉图谱而形成为一二维平面结构，并沉积于该基材而形成该三维奈微米结构。