发明名称 | 基板处理系统 | ||
摘要 | 【课题】目的在于提供一种,在被处理基板表面涂敷形成处理液之膜,和曝光装置连动而于基板形成特定图案的基板处理系统,其可对各基板均匀涂敷处理液,可提升和曝光装置连动时之基板处理效率。【解决手段】在被处理基板表面涂敷形成处理液之膜,和曝光装置连动而于基板形成特定图案的基板处理系统100,具备:涂敷膜形成手段,具有:分别载置被处理基板的第1平台50与第2平台59;及对上述第1平台50与第2平台59分别载置之被处理基板表面涂敷处理液而形成膜的处理液涂敷手段;及基板搬送手段42a、42b,对多数曝光装置4a、4b,进行经由上述涂敷膜形成手段形成有膜的被处理基板之搬送。 | ||
申请公布号 | TW200627519 | 申请公布日期 | 2006.08.01 |
申请号 | TW094131361 | 申请日期 | 2005.09.12 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 归山武郎;井光广;原拓伸 |
分类号 | H01L21/027;G03F7/16 | 主分类号 | H01L21/027 |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |