发明名称 制造用于微机电系统预结构之方法
摘要 一种制造一干涉式调变器元件之方法,包括在一基板上形成至少两个柱,例如由旋涂玻璃形成之柱。在替代实施例中,该等柱可在基板上沈积某些调变器元件层之后形成。一干涉式调变器元件包括至少两个位于基板上之旋涂玻璃支柱。在替代实施例中,该等支柱可位于某些调变器元件层上而非位于基板上。一种制造一干涉式调变器元件之方法,包括在一支柱上形成一刚性帽。一干涉式调变器元件包括具有刚性帽部件之支柱。
申请公布号 TW200626487 申请公布日期 2006.08.01
申请号 TW094132370 申请日期 2005.09.19
申请人 IDC公司 发明人 杰佛瑞B 森派萨尔
分类号 B81C1/00;G02B26/00 主分类号 B81C1/00
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国