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发明名称
METHOD FOR FORMING AN ISOLATION LAYER DIELECTRIC IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
KR100605583(B1)
申请公布日期
2006.07.31
申请号
KR20040113607
申请日期
2004.12.28
申请人
发明人
分类号
H01L21/31;H01L21/304;H01L21/318;H01L21/3205
主分类号
H01L21/31
代理机构
代理人
主权项
地址
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