发明名称 |
半导体装置及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种半导体装置及其制造方法。本发明的目的在于:提供一种能够防止漏极衬底接触之间导通的、可靠性较高的半导体装置及其制造方法。通过在高浓度p型衬底区域7和衬底表面区域的低浓度N型漏极区域2之间设置中浓度P型衬底区域13,来抑制从漏极区域延伸过来的耗尽层的扩大。 |
申请公布号 |
CN1808726A |
申请公布日期 |
2006.07.26 |
申请号 |
CN200510118636.7 |
申请日期 |
2005.11.01 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
宫田里江;沟口修二 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01);H01L29/739(2006.01);H01L29/36(2006.01);H01L21/336(2006.01);H01L21/331(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汪惠民 |
主权项 |
1、一种半导体装置,其特征在于:包括:第1导电型第1半导体区域,形成在半导体衬底中的下部且一部分延伸到上述半导体衬底的表面,第2导电型第2半导体区域,形成在上述半导体衬底中的上述第1半导体区域上,第1导电型第3半导体区域,形成在上述半导体衬底中的上述第2半导体区域上,第2导电型第4半导体区域,与上述第3半导体区域邻接形成在上述半导体衬底中的上述第2半导体区域上,沟渠,贯穿上述第2半导体区域及上述第3半导体区域,到达上述第1半导体区域,栅极绝缘膜,形成在上述沟渠的壁面上,以及栅极电极,形成在上述沟渠内的上述栅极绝缘膜上;还包括:第2导电型第5半导体区域,形成在被上述第4半导体区域和位于该第4半导体区域侧向的上述第1半导体区域夹着的部分的、上述半导体衬底中的上述第2半导体区域上;上述第1半导体区域中的延伸到上述半导体衬底表面的部分的上面、上述第3半导体区域上面、上述第4半导体区域上面及上述第5半导体区域上面,都成为上述半导体衬底的表面;上述第5半导体区域的杂质浓度,高于上述第2半导体区域的杂质浓度。 |
地址 |
日本大阪府 |