| 主权项 |
1.一种阴极射线管,系具备:一对之板状构件、一对 之支撑体(在前述一对之板状构件呈对向之状态下 与前述各板状构件固接来支撑前述各板状构件)、 以及荫罩(在被施加拉伸力的状态下固接于前述各 板状构件);其特征在于,前述支撑体具有曲柄状之 高低差部分(以在前述荫罩侧成为突起的方式所形 成者),前述支撑体与萤光幕面呈分离状态,且前述 曲柄状之高低差部分与前述荫罩呈分离状态。 2.如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,前述 支撑体在前述板状构件之长方向具有自端部到达 内侧之延伸部,并将前述延伸部之端部与前述板状 构件加以固接,藉此,前述支撑体之进入前述板状 构件之长方向内侧之部分被固接着。 3.如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,于前 述支撑体系进一步固接着弹簧装设构件(位于前述 曲柄状之高低差部分所形成之凹陷部分,用以支撑 前述支撑体),且于前述弹簧装设构件固接着弹簧 构件,于前述弹簧构件形成有用以插入安装销的安 装孔,前述安装孔的中心点相对于固接着前述板状 构件之部分的前述支撑体之位置,系位于前述荫罩 侧之相反侧。 4.如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,于前 述支撑体系固接着弹簧构件(位于前述曲柄状之高 低差部分所形成之凹陷部分或是凹陷部分的外部, 用以支撑前述支撑体),且于前述弹簧构件形成有 用以插入安装销的安装孔,前述安装孔的中心点相 对于固接着前述板状构件之部分的前述支撑体之 位置,系位于前述荫罩侧之相反侧。 5.如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,前述 曲柄状之高低差部分在前述支撑体之长方向上,具 有形成为直线状之部分。 6.如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,在前 述曲柄状之高低差部分当中,往前述荫罩侧偏移之 部分的中轴系位于前述荫罩之面的上侧。 7.如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,前述 曲柄状之高低差部分的弯曲部分系形成为圆弧状, 前述圆弧的内周侧之曲率半径为20mm以上。 8.如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,支撑 调整构件系经由在前述曲柄状之高低差部分所形 成之凹陷部分以与前述支撑体对向的方式进一步 固接着。 9.如申请专利范围第8项之阴极射线管,其中,于前 述支撑调整构件系进一步形成可减低前述支撑调 整构件在长方向之弹簧常数的突起。 10.如申请专利范围第8项之阴极射线管,其中,前述 支撑调整构件在长方向之弹簧常数系1.47104N/mm以 下。 11.如申请专利范围第8项之阴极射线管,其中,前述 支撑调整构件之热膨胀系数较前述支撑体为大。 12.如申请专利范围第11项之阴极射线管,其中,前述 支撑调整构件之热膨胀系数为前述支撑体之热膨 胀系数的1.2倍以上。 13.如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,热膨 胀系数较前述支撑体为小的支撑调整构件系固接 于前述曲柄状之高低差部分当中,往前述荫罩侧偏 移之部分的表面。 14.如申请专利范围第8项之阴极射线管,其中,前述 内部磁气屏蔽系隔着绝热材而固接于前述支撑调 整构件。 15.如申请专利范围第8项之阴极射线管,其中,内部 磁气屏蔽系固接于前述支撑调整构件,前述内部磁 气屏蔽与前述支撑调整构件的接触面积系前述支 撑调整构件之单面面积的25%以下。 16.如申请专利范围第15项之阴极射线管,其中,前述 内部磁气屏蔽与前述支撑调整构件的接触面积系 前述支撑调整构件之单面面积的5%以下。 17.如申请专利范围第15项之阴极射线管,系于前述 内部磁气屏蔽与前述支撑调整构件之间夹设热传 导率较前述内部磁气屏蔽与前述支撑调整构件为 低之构件。 18.如申请专利范围第17项之阴极射线管,其中,前述 热传导率低的构件之材料系SUS304。 19.如申请专利范围第15项之阴极射线管,其中,前述 内部磁气屏蔽系透过在前述内部磁气屏蔽与前述 支撑调整构件中之至少一者所形成之突起部来接 合于前述支撑调整构件,前述接触面积系前述突起 部之接合面积。 图式简单说明: 图1系关于本发明之一实施形态之彩色阴极射线管 的截面图。 图2系关于本发明之实施形态1之荫罩构体的立体 图。 图3系关于本发明之实施形态2之荫罩构体的立体 图。 图4A所示系关于习知之荫罩构体之力矩的施加状 态之一例之图。 图4B所示系与本发明之一实施形态之荫罩构体有 关之力矩的施加状态图。 图5所示系与本发明之其他实施形态之荫罩构体有 关之力矩的施加状态图。 图6系有关本发明之实施形态3之荫罩构体的立体 图。 图7A所示系阴极射线管动作时之框架与支撑调整 构件之时刻-温度关系图。 图7B所示系阴极射线管动作时之时刻一电子束移 动量关系图。 图8所示系内部磁气屏蔽之一例的立体图。 图9系有关本发明之实施形态4之荫罩构体之立体 图。 图10系内部磁气屏蔽与荫罩构体呈接合状态下之 图9的A箭头图。 图11系内部磁气屏蔽与荫罩构体呈接合状态下之 图9的I-I线之截面图。 图12A系显示较图7之时刻t1为前之状态下阴极射线 管动作时之框架的位移状态图。 图12B系显示较图7之时刻t1为后之状态下阴极射线 管动作时之框架的位移状态图。 图13A系有关本发明之一实施形态之形成用以降低 弹簧常数之突起所得之支撑调整构件的一例之侧 视图。 图13B系有关本发明之一实施形态之形成用以降低 弹簧常数之突起所得之支撑调整构件的另一例之 侧视图。 图13C系有关本发明之一实施形态之形成用以降低 弹簧常数之突起所得之支撑调整构件的又一例之 侧视图。 图14A系相关于内部磁气屏蔽与支撑调整构件的接 合之实施例1的立体图。 图14B系图14A之Ⅱ-Ⅱ线的截面图。 图15A系相关于内部磁气屏蔽与支撑调整构件的接 合之实施例2的立体图。 图15B系图15A之Ⅲ-Ⅲ线的截面图。 图16A系相关于内部磁气屏蔽与支撑调整构件的接 合之实施例3的立体图。 图16B系图16A之Ⅳ-Ⅳ线的截面图。 图17A所示系与本发明之实施形态6相关之阴极射线 管动作时之框架与支撑调整构件之时刻-温度关系 图。 图17B所示系与本发明之实施形态6相关阴极射线管 动作时之时刻一电子束移动量关系图。 图18系习知之彩色阴极射线管之一例的截面图。 |
