| 主权项 |
1.一种气冷式乾真空泵,系为将接受作为旋转驱动 源之马达的驱动力以进行旋转之转动部予以容纳 于具有流体之吸入口与排出口的壳体之真空泵,其 特征为: 将供气手段设置于壳体之轴向一侧,且将上述壳体 形成为由可旋转地容纳上述转动部之内管部与设 于该内管部周围之外管部所成的双层管构造,并在 上述内管部与上述外管部间沿轴向装设上述供气 手段所供给的冷风可通过之通风路径。 2.如申请专利范围第1项所述之气冷式乾真空泵,其 中,上述通风路径系沿由作为旋转驱动源之马达、 与将该马达之驱动力传达至转动部的增速齿轮、 定时齿轮等之旋转传达零件、与旋转自如地支承 上述转动部之转轴的滚动轴承手段、与互相啮合 之上述转动部等所成的发热构件轴向被予以设成, 而该发热构件产生之热与通过上述通风路径内之 上述供气手段所产生之冷风即对流流动以进行热 交换。 3.如申请专利范围第1项或第2项所述之气冷式乾真 空泵,其中,上述供气手段系为送风机或吸风机。 4.如申请专利范围第2项所述之气冷式乾真空泵,其 中,容纳转动部之上述壳体与容纳作为上述旋转传 达零件之增速齿轮的增速齿轮室及容纳定时齿轮 之定时齿轮室系藉连通部被予以连通于上述内管 部与上述外管部之双层管构造间而共同形成上述 通风路径。 5.如申请专利范围第3项所述之气冷式乾真空泵,其 中,容纳转动部之上述壳体与容纳作为上述旋转传 达零件之增速齿轮的增速齿轮室及容纳定时齿轮 之定时齿轮室系藉连通部被予以连通于上述内管 部与上述外管部之双层管构造间而共同形成上述 通风路径。 6.如申请专利范围第4项所述之气冷式乾真空泵,其 中,上述增速齿轮室与定时齿轮室系藉隔墙被予以 区分形成为上下两室,且藉将该两室设成藉通路而 内部连通俾使润滑油可进行对流。 7.如申请专利范围第5项所述之气冷式乾真空泵,其 中,上述增速齿轮室与定时齿轮室系藉隔墙被予以 区分形成为上下两室,且藉将该两室设成藉通路而 内部连通俾使润滑油可进行对流。 8.如申请专利范围第4项或第6项所述之气冷式乾真 空泵,其中,上述转动部系被设于一端转动自如支 撑于壳体一侧所固定之定时齿轮室内配置的第一 滚动轴承手段之转轴。 9.如申请专利范围第5项所述之气冷式乾真空泵,其 中,上述转动部系被设于一端转动自如支撑于壳体 一侧所固定之定时齿轮室内配置的第一滚动轴承 手段之转轴。 10.如申请专利范围第7项所述之气冷式乾真空泵, 其中,上述转动部系被设于一端转动自如支撑于壳 体一侧所固定之定时齿轮室内配置的第一滚动轴 承手段之转轴。 11.如申请专利范围第1项、第2项、第4项或第6项记 载之气冷式乾真空泵,其中,上述转动部系接近设 有上述吸入口并呈密开之壳体另侧而被装设于转 轴,且该转轴另端转动自如地被支承于上述壳体的 上述一侧所固定小径保持筒内予以配置之第二滚 动轴承手段。 12.如申请专利范围第3项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述转动部系接近设有上述吸入口并呈密闭 之壳体另侧而被装设于转轴,且该转轴另端转动自 如地被支承于上述壳体的上述一侧所固定小径保 持筒内予以配置之第二滚动轴承手段。 13.如申请专利范围第5项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述转动部系接近设有上述吸入口并呈密闭 之壳体另侧而被装设于转轴,且该转轴另端转动自 如地被支承于上述壳体的上述一侧所固定小径保 持筒内予以配置之第二滚动轴承手段。 14.如申请专利范围第7项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述转动部系接近设有上述吸入口并呈密闭 之壳体另侧而被装设于转轴,且该转轴另端转动自 如地被支承于上述壳体的上述一侧所固定小径保 持筒内予以配置之第二滚动轴承手段。 15.如申请专利范围第8项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述转动部系接近设有上述吸入口并呈密闭 之壳体另侧而被装设于转轴,且该转轴另端转动自 如地被支承于上述壳体的上述一侧所固定小径保 持筒内予以配置之第二滚动轴承手段。 16.如申请专利范围第9项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述转动部系接近设有上述吸入口并呈密闭 之壳体另侧而被装设于转轴,且该转轴另端转动自 如地被支承于上述壳体的上述一侧所固定小径保 持筒内予以配置之第二滚动轴承手段。 17.如申请专利范围第10项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述转动部系接近设有上述吸入口并呈密闭 之壳体另侧而被装设于转轴,且该转轴另端转动自 如地被支承于上述壳体的上述一侧所固定小径保 持筒内予以配置之第二滚动轴承手段。 18.如申请专利范围第1项、第2项、第4项或第6项记 载之气冷式乾真空泵,其中,上述壳体、上述马达 与上述供气手段之至少一个外周系需被吸音构件 予以被覆者。 19.如申请专利范围第3项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述壳体、上述马达与上述供气手段之至少 一个外周系需被吸音构件予以被覆者。 20.如申请专利范围第5项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述壳体、上述马达与上述供气手段之至少 一个外周系需被吸音构件予以被覆者。 21.如申请专利范围第7项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述壳体、上述马达与上述供气手段之至少 一个外周系需被吸音构件予以被覆者。 22.如申请专利范围第8项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述壳体、上述马达与上述供气手段之至少 一个外周系需被吸音构件予以被覆者。 23.如申请专利范围第9项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述壳体、上述马达与上述供气手段之至少 一个外周系需被吸音构件予以被覆者。 24.如申请专利范围第10项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述壳体、上述马达与上述供气手段之至少 一个外周系需被吸音构件予以被覆者。 25.如申请专利范围第11项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述壳体、上述马达与上述供气手段之至少 一个外周系需被吸音构件予以被覆者。 26.如申请专利范围第12项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述壳体、上述马达与上述供气手段之至少 一个外周系需被吸音构件予以被覆者。 27.如申请专利范围第13项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述壳体、上述马达与上述供气手段之至少 一个外周系需被吸音构件予以被覆者。 28.如申请专利范围第14项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述壳体、上述马达与上述供气手段之至少 一个外周系需被吸音构件予以被覆者。 29.如申请专利范围第15项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述壳体、上述马达与上述供气手段之至少 一个外周系需被吸音构件予以被覆者。 30.如申请专利范围第16项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述壳体、上述马达与上述供气手段之至少 一个外周系需被吸音构件予以被覆者。 31.如申请专利范围第17项记载之气冷式乾真空泵, 其中,上述壳体、上述马达与上述供气手段之至少 一个外周系需被吸音构件予以被覆者。 图式简单说明: 第一图系为本发明气冷式乾真空泵之纵向剖面图 。 第二图系为本发明气冷式乾真空泵之立体图。 第三图系为本发明气冷式乾真空泵之正面图。 第四图系为本发明气冷式乾真空泵之平面图。 第五图系为本发明气冷式乾真空泵之底面图。 |
