| 发明名称 |
Wärmebehandlungsanlage und Verfahren zu ihrer Reinigung |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60120278(D1) |
申请公布日期 |
2006.07.20 |
| 申请号 |
DE20016020278 |
申请日期 |
2001.06.19 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LTD. |
发明人 |
TAKAHASHI;HITOSHI, TOKYO;YAMAMOTO, TOKYO;ISHITI;NISHIMURA;SPAULL |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/455;H01L21/316 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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