发明名称 | 双层立体结构之制法以及具有该双层立体结构之三维光子晶体 | ||
摘要 | 一种双层立体结构之制法,该制法系先于一透明基板上形成一混有感光染料之感光性高分子层,接着于该感光性高分子层之两表面分别形成复数个曝光区以及未曝光区,最后再除去该感光性高分子层两表面之未曝光区,以形成一双层立体结构,俾简化制程。 | ||
申请公布号 | TW200624892 | 申请公布日期 | 2006.07.16 |
申请号 | TW093141708 | 申请日期 | 2004.12.31 |
申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 廖文昌;许联崇;郑瑞庭 |
分类号 | G02B6/12 | 主分类号 | G02B6/12 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |