| 摘要 |
本发明系为一种顺序量测双折射材料多项光学参数与二维全场量测之装置及方法，其装置由包括一入射光源及一光学架构，其量测方法则系使上述入射光源依序经过光学架构之偏振片、电光调变器、以及第一λ／4波片、待测物、第二λ／4波片、检偏片，并于光侦测器上接受其光讯号，另配合移除第一λ／4波片，最后再将前述光讯号分别经过带通滤波器和锁相放大器作讯号处理，经运算单元之运算以分别获得主轴角度、相位延迟、阶数、厚度和寻常光与非寻常光的折射率等光学参数；另藉由加入CCD及电控装置，本发明亦为一种二维全场量测装置及方法。 |
