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发明名称
制造侧面半导体元件的方法
摘要
一种侧面接面半导体元件及其制造方法,包含下列步骤:藉由许多排成一串大致平行的平面之半导体材料层,形成具有堆叠结构之半导体结构(2),其中第一层(4)之半导体材料具有第一浓度之第一极性的超量电荷载子;及选择性移除第一层(4)的半导体材料,其深度系沿着大致平行结构的各层平面之第一方向改变,使得可以在活性层(8)中,沿着第一方向,提供第一极性的电荷载子之浓度梯度。光子源包含该侧面接面半导体元件。
申请公布号
TW200625742
申请公布日期
2006.07.16
申请号
TW094126330
申请日期
2005.08.03
申请人
昆提克股份有限公司
发明人
杰佛瑞理查纳煦;约翰亨利杰佛森;奇斯詹姆士纳煦
分类号
H01S5/042;H01L21/3213
主分类号
H01S5/042
代理机构
代理人
何金涂;林荣琳
主权项
地址
英国
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