发明名称 制造侧面半导体元件的方法
摘要 一种侧面接面半导体元件及其制造方法,包含下列步骤:藉由许多排成一串大致平行的平面之半导体材料层,形成具有堆叠结构之半导体结构(2),其中第一层(4)之半导体材料具有第一浓度之第一极性的超量电荷载子;及选择性移除第一层(4)的半导体材料,其深度系沿着大致平行结构的各层平面之第一方向改变,使得可以在活性层(8)中,沿着第一方向,提供第一极性的电荷载子之浓度梯度。光子源包含该侧面接面半导体元件。
申请公布号 TW200625742 申请公布日期 2006.07.16
申请号 TW094126330 申请日期 2005.08.03
申请人 昆提克股份有限公司 发明人 杰佛瑞理查纳煦;约翰亨利杰佛森;奇斯詹姆士纳煦
分类号 H01S5/042;H01L21/3213 主分类号 H01S5/042
代理机构 代理人 何金涂;林荣琳
主权项
地址 英国