| 发明名称 |
Flare reduction in photolithography |
| 摘要 |
Lithography masks that include sub-resolution features to reduce flare are disclosed and described herein.
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| 申请公布号 |
US2006154152(A1) |
申请公布日期 |
2006.07.13 |
| 申请号 |
US20050032712 |
申请日期 |
2005.01.10 |
| 申请人 |
INTEL CORPORATION |
发明人 |
CHANDHOK MANISH |
| 分类号 |
G03C5/00;G03F1/00;G21K5/00 |
主分类号 |
G03C5/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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