| 发明名称 |
SYSTEM FOR PROCESSING PHOTORESIST FLOW |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20060081462(A) |
申请公布日期 |
2006.07.13 |
| 申请号 |
KR20050001788 |
申请日期 |
2005.01.07 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
SEO, DONG WON |
| 分类号 |
H01L21/324;H01L21/027;H01L21/312;H01L21/68 |
主分类号 |
H01L21/324 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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