发明名称 |
含1,4-二氢吡啶的红外敏感组合物及其生产可成像元件的用途 |
摘要 |
(a)至少一种能吸收红外辐射的物质,(b)至少一种能形成自由基的化合物,和(c)至少一种式(I)的 1,4-二氢吡啶衍生物。 |
申请公布号 |
CN1802257A |
申请公布日期 |
2006.07.12 |
申请号 |
CN200480016029.3 |
申请日期 |
2004.06.08 |
申请人 |
柯达彩色绘图有限责任公司 |
发明人 |
H·-J·廷珀;T·维蒂希;J·黄;U·米勒 |
分类号 |
B41C1/10(2006.01) |
主分类号 |
B41C1/10(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
谭明胜;段晓玲 |
主权项 |
1.引发剂体系,包含(a)至少一种能吸收红外辐射的物质,(b)至少一种能形成自由基的化合物,和(c)至少一种式(I)的1,4-二氢吡啶衍生物<img file="A2004800160290002C1.GIF" wi="519" he="448" />其中R<sup>1</sup>选自氢原子、-C(O)OR<sup>7</sup>、任选取代的烷基、任选取代的芳基和任选取代的芳烷基,R<sup>2</sup>和R<sup>3</sup>独立地选自任选取代的烷基、任选取代的芳基、CN和氢原子,R<sup>4</sup>和R<sup>5</sup>独立地选自-C(O)OR<sup>7</sup>、-C(O)R<sup>7</sup>、-C(O)NR<sup>8</sup>R<sup>9</sup>和CN,或者R<sup>2</sup>和R<sup>4</sup>一起形成任选取代的苯环或5到7元碳环或杂环,其中单元<img file="A2004800160290002C2.GIF" wi="97" he="158" />存在于碳环或杂环中与1,4-二氢吡啶环的5位相邻的位置,其中碳环或杂环任选含有其它的取代基,或者R<sup>2</sup>和R<sup>4</sup>以及R<sup>3</sup>和R<sup>5</sup>都形成任选取代的苯环或5到7元碳环或杂环,其中单元<img file="A2004800160290002C3.GIF" wi="97" he="163" />存在于碳环或杂环中与二氢吡啶环的3位和5位相邻的位置,其中碳环或杂环任选含有其它的取代基,或者R<sup>2</sup>/R<sup>4</sup>和R<sup>3</sup>/R<sup>5</sup>两对中的一对形成5到7元碳环或杂环,其中单元<img file="A2004800160290003C1.GIF" wi="92" he="148" />存在于碳环或杂环中与二氢吡啶环的5位和3位相邻的位置,其中碳环或杂环任选含有其它的取代基,另一对形成任选取代的苯环,或者R<sup>2</sup>和R<sup>1</sup>或R<sup>3</sup>和R<sup>1</sup>形成任选包含一个或多个取代基的5到7元杂环,除了其与1,4-二氢吡啶环共用的氮原子外,任选含有其它氮原子、-NR<sup>13</sup>基团、-S-或-O-,R<sup>6</sup>选自任选被卤原子或-C(O)基团取代的烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳烷基、任选取代的杂环基团和基团<img file="A2004800160290003C2.GIF" wi="463" he="344" />Y是亚烷基或亚芳基,R<sup>7</sup>是氢原子、芳基、芳烷基或烷基,其中烷基和芳烷基的烷基部分任选含有一个或多个C-C双键和/或C-C三键,R<sup>8</sup>和R<sup>9</sup>独立地选自氢原子、任选取代的烷基、任选取代的芳基和任选取代的芳烷基,并且R<sup>13</sup>选自氢原子、烷基、芳基和芳烷基。 |
地址 |
德国奥斯特罗特 |