| 发明名称 | 薄膜处理装置以及薄膜处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种基板上薄膜的处理装置，包括适合容纳基板的工作台；与所述基板相对并具有一空间的气体护罩；通过所述空间设置在部分所述基板上的能量源；移动所述气体护罩的第一操作单元；以及移动所述能量源的第二操作单元。 | ||
| 申请公布号 | CN1796599A | 申请公布日期 | 2006.07.05 |
| 申请号 | CN200510109062.7 | 申请日期 | 2005.10.17 |
| 申请人 | LG.菲利浦LCD株式会社;LG电子株式会社 | 发明人 | 李钟哲;朴祥爀 |
| 分类号 | C23C16/00(2006.01);C23C16/54(2006.01) | 主分类号 | C23C16/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;祁建国 |
| 主权项 | 1、一种基板上薄膜的处理装置，包括：适合容纳基板的工作台；与所述基板相对并具有一空间的气体护罩；通过所述空间设置在部分所述基板上的能量源；移动所述气体护罩的第一操作单元；以及移动所述能量源的第二操作单元。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||