一种标准漏孔之制作方法

摘要

本发明涉及一种标准漏孔之制作方法。本发明所提供之标准漏孔制作方法包括以下步骤：提供一基底；于基底上形成一催化剂薄膜，其具有预定图案结构；于催化剂之位置生长出预定尺寸及数目之一维奈米结构；于基底上形成一第二膜层；去除一维奈米结构，使在第二膜层中形成尺寸与一维奈米结构相应之通孔，从而获得一标准漏孔。本发明通过数目、形状及尺寸可控之一维奈米结构作为制造模板，漏孔之漏率可由理论计算准确求得，故可获得漏率可控性好、可自定标之标准漏孔；从而解决了现有技术中漏孔可控性差，且必须借助其他设备对其漏率值进行标定之不足。