移除基板上光阻之方法

摘要

本发明揭示一种移除覆盖一无机层之一有机光阻上的一富碳层之方法，其可使用包括一含氟气体、一含氧气体、以及一碳氢化合物气体之一处理气体，以及一或多个可选组件，以产生有效地采用该无机层之较低移除而蚀刻该富碳层的一电浆。该富碳层可在该相同处理室内加以移除，或者可在用于移除该块状光阻之一不同处理室内加以移除。