发明名称 导带处理设备中具有至少一导引各导带用之导引滚筒之导引装置
摘要 一种具有至少一导引滚筒(2)之导引装置(1),其具有一轴(5)且配置在一可抽成真空之导带处理设备中以对各导带进行导引,该轴(5)之空间位置可调整。为了在具有多个室之模组设备中补偿各室相对之间之对齐上之误差及/或防止滚筒座完全可移位,其移位使该处理-和涂层源之再校准和各涂层滚筒之周围上之隔离间隙之再校准成为必要,则本发明中之设计方式是:该导引滚筒(2)定位在二个旋转轴承(11,12)之问,其中至少一旋转轴承可相对于另一旋转轴承以横向于该轴(5)之方式而移位。这较佳是藉由下述方式来进行;可移位之该旋转轴承(12)具有一固定在该室壁(14)上之滑板导引件(15),其上可利用该旋转轴承(12)来导引该滑板(16),且可移位之该旋转轴承(12)具有一种遥控式移位驱动器(21)。
申请公布号 TWI257366 申请公布日期 2006.07.01
申请号 TW093115903 申请日期 2004.06.03
申请人 应用薄膜两合股份有限公司 发明人 史帝文汉;彼得史库克;卡罗-汉瑞屈温克;兰纳库克拉;瑞纳路德维格
分类号 B65G15/60 主分类号 B65G15/60
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;林荣琳 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种具有至少一导引滚筒(2)之导引装置(1),其具 有一轴(5)且配置在一可抽成真空之导带处理设备 中以对各导带(10)进行导引,该轴(5)之空间位置可 调整,其特征为: 该导引滚筒(2)定位在二个旋转轴承(11,12)之间,其 中至少一旋转轴承可相对于另一旋转轴承以横向 于该轴(5)之方式而移位。 2.如申请专利范围第1项之导引装置,其中可移位之 该旋转轴承(12)配置在一室壁(14)上。 3.如申请专利范围第2项之导引装置,其中可移位之 该旋转轴承(12)可平行于该室壁(14)而移位。 4.如申请专利范围第2项之导引装置,其中可移位之 该旋转轴承(12)具有一固定在该室壁(14)上之滑板 导引件(15),其上可利用该旋转轴承(12)来导引该滑 板(16)。 5.如申请专利范围第4项之导引装置,其中可移位之 该旋转轴承(12)以可摆动之方式保持在该滑板(16) 上。 6.如申请专利范围第2项之导引装置,其中该滑板导 引件(15)之移位方向位于该导引滚筒(2)之经由该导 带(10)而卷绕所形成之角度之一半角度中。 7.如申请专利范围第1项之导引装置,其中可移位之 该旋转轴承(12)具有一遥控式移位驱动器(21)。 8.如申请专利范围第7项之导引装置,其中该移位驱 动器(21)由一电动马达(22),一减速传动器(23)和一旋 转耦合器(24)所构成。 9.如申请专利范围第8项之导引装置,其中该旋转耦 合器(24)具有一种弹性之中介元件。 10.如申请专利范围第8项之导引装置,其中该电动 马达(22),减速传动器(23)和旋转耦合器(24)具有互相 对齐之轴。 11.如申请专利范围第10项之导引装置,其中各个对 齐之轴平行于该滑板导引件(15)之动方向而对准。 12.如申请专利范围第4项之导引装置,其中该滑板 导引件(15)之未由该滑板(16)所覆盖之部份由至少 一折棚(26)所覆盖。 13.如申请专利范围第4项之导引装置,其中该滑板 导引件(15)在二个末端分别具有一种止动件(15a,15b) 。 14.如中请专利范围第1项之导引装置,其中该导引 滚筒(2)之在另一末端上之不可在横方向中移位之 旋转轴承(11)以可摆动之方式固定在一保持件(27) 上。 15.如申请专利范围第14项之导引装置,其中该不可 移位之旋转轴承(11)之该保持件具有一种轴间隙以 平衡该导引滚筒(2)之角度-和长度变化。 16.如申请专利范围第1项之导引装置,其中在由可 抽成真空之各室(32,33,34,45)所形成之串连配置中各 可移位之导引滚筒(22)分别配置在一种缝隙(19)之 前以作为至下一室之贯通孔。 17.如申请专利范围第1项之导引装置,其中在由可 抽成真空之各室(32,33,34,45)所形成之串连配置中各 可移位之导引滚筒(22)分别配置在一种缝隙(19)之 后以作为至下一室之贯通孔。 18.如申请专利范围第1项之导引装置,其中在连续 之导带(10)之至少一边缘之区域中配置至少一种光 学感测器以测得各边缘之运行路径和该移位驱动 器(21)之影响。 19.如申请专利范围第18项之导引装置,其中在该导 带运行路径上在垂直于导带边缘之一条直线上配 置多个光学感测器以测定瞬间之导带运行路径。 图式简单说明: 第1图 在导引滚筒之相对于该轴成径向中观看时 一导引装置之部份切面图。 第2图 一导引滚筒之径向切面图,其包含一在其上 导引之导带。 第3图 各处理-或涂层设备之相串连之室模组之透 视图。
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