| 主权项 |
1.一种微影装置,其包含: 一透射或反射影像之光罩台; 一晶圆台;以及 一反射折射曝光光学装置组件,被定方位于该光罩 台与该晶圆台之间,以全等方式将该影像投射于该 晶圆台上, 其中,该光罩台被定方位而实际正交于该晶圆台。 2.如申请专利范围第1项之微影装置,其中,该反射 折射曝光光学装置组件致使该影像偶数数目的反 射。 3.如申请专利范围第2项之微影装置,其中,该所投 射之影像实际上没有像差,包含下列任何一者: 透视弯曲;以及 模糊区域。 4.如申请专利范围第2项之微影装置,另包含: 一曝光站;以及 多个晶圆台,该等晶圆台的各个晶圆台具有和一资 料收集站(与该多个晶圆台中的其他晶圆台相关联 )分开之相关的资料收集站。 5.如申请专利范围第4项之微影装置,其中,该多个 晶圆台中的各个晶圆台系可以从该相关的资料收 集站移动到该曝光站。 6.如申请专利范围第4项之微影装置,其中,在操作 期间,该多个基板台的各个基板台轮替地从其该相 关的资料收集站移动到该曝光站,使得该多个基板 台的第一个基板台之资料收集能够发生在和该多 个基板台的第二个基板台正在该曝光站经历曝光 的同一时间。 7.如申请专利范围第2项之微影装置,另包含: 一第一资料收集照相机,配置在装置内的第一位置 上; 一曝光装置,配置在装置内的第二位置上; 一第二资料收集照相机,配置在装置内的第三位置 上; 一第一晶圆台,可以从该第一位置移动到该第二位 置;以及 一第二晶圆台,可以从该第三位置移动到该第二位 置。 8.如申请专利范围第7项之微影装置,另包含一轨道 ,该第一及第二晶圆台系可移动安装于该轨道上。 9.如申请专利范围第2项之微影装置,另包含一双隔 离系统,其中,该双隔离系统包含: 一隔离底架,被一非隔离工具结构所支撑; 一晶圆台构件,被该隔离底架所支撑,该晶圆台构 件提供对半导体晶圆之接合的安装; 一光罩台构件,被该隔离底架所支撑,该光罩台构 件提供对光罩的安装; 一隔离桥,提供对该反射折射曝光光学装置组件的 安装,该隔离桥被该隔离底架所支撑。 10.一种微影方法,其包含步骤: 提供一光罩台,用以透射或反射影像; 提供一晶圆台,用以接收影像;以及 定反射折射曝光光学装置组件的方位在该光罩台 与该晶圆台之间,以全等方式将该影像投射于该晶 圆台上,及使该光罩台定方位而实际正交于该晶圆 台。 11.如申请专利范围第10项之微影方法,另包含藉由 该反射折射曝光光学装置组件来致使该影像偶数 数目的反射之步骤。 12.如申请专利范围第11项之微影方法,另包含投射 影像实际上没有像差之步骤,像差包含下列任何一 者: 透视弯曲;以及 模糊区域。 13.如申请专利范围第11项之微影方法,另包含步骤: 提供一曝光站;以及 提供多个晶圆台,该等晶圆台的各个晶圆台具有和 一资料收集站(与该多个晶圆台中的其他晶圆台相 关联)分开之相关的资料收集站。 14.如申请专利范围第13项之微影方法,另包含让该 多个晶圆台中的各个晶圆台能够从该相关的资料 收集站移动到该曝光站之步骤。 15.如申请专利范围第14项之微影方法,另包含在操 作期间,该多个基板台的各个基板台轮替地从其该 相关的资料收集站移动到该曝光站,使得该多个基 板台的第一个基板台之资料收集能够发生在和该 多个基板台的第二个基板台正在该曝光站经历曝 光的同一时间之步骤。 16.如申请专利范围第11项之微影方法,另包含步骤: 提供一第一资料收集照相机,配置在装置内的第一 位置上; 提供一曝光装置,配置在装置内的第二位置上; 提供一第二资料收集照相机,配置在装置内的第三 位置上; 提供一第一晶圆台,可以从该第一位置移动到该第 二位置;以及 提供一第二晶圆台,可以从该第三位置移动到该第 二位置。 17.如申请专利范围第16项之微影方法,另包含提供 一轨道,该第一及第二晶圆台系可移动安装于该轨 道上之步骤。 18.如申请专利范围第1l项之微影方法,另包含步骤: 提供一隔离底架,该隔离底架被一非隔离工具结构 所支撑; 提供一晶圆台构件以提供对半导体晶圆之接合的 安装,该晶圆台构件被该隔离底架所支撑; 提供一光罩台构件以提供对光罩的安装,该光罩台 构件被该隔离底架所支撑;以及 提供一隔离桥以提供对该反射折射曝光光学装置 组件的安装,该隔离桥被该隔离底架所支撑, 其中,一双隔离方法被提供。 图式简单说明: 图1系一例举在本发明实施例中之影像翻转问题的 图像。 图2系一例举典型之微影系统的图形,其使用反射 折射曝光光学装置、平行的光罩台及晶圆台、和 一放大镜。 图3系一例举使用中央模糊光学系统设计之微影系 统的图形。 图4系一例举使用偏轴设计之微影系统的图形。 图5系一例举在本发明之实施例中,使用正交之光 罩台及晶圆台之微影系统的图形。 图6系一例举在本发明之实施例中,使用正交之光 罩台及晶圆台之微影系统之反射折射曝光光学装 置的图形。 图7系一例举在本发明之实施例中,使用正交之光 罩台及晶圆台之微影系统中之影像路径的图形。 图8系一例举在本发明之实施例中,在反射折射曝 光光学装置内之处理期间影像之方位的图表。 图9例举在本发明之实施例中的双晶圆台。 图10例举在本发明之实施例中的双隔离系统。 |
