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发明名称
曝光装置、曝光方法及元件制造方法
摘要
曝光装置具备:嘴构件70,包含供应口12(用以供应液体LQ)及回收口22(用以回收液体LQ)中之至少一方;及嘴调整机构80,按照基板P的位置或姿势,来调整嘴构件70的位置及姿势之至少一方。曝光装置,系在基板P上形成液体LQ的液浸区域,以透过液浸区域的液体LQ而使基板P曝光。藉此,能将液体良好保持在投影光学系统与基板之间,而能进行高精度之曝光处理。
申请公布号
TW200623234
申请公布日期
2006.07.01
申请号
TW094132016
申请日期
2005.09.16
申请人
尼康股份有限公司
发明人
水谷刚之
分类号
H01L21/027;G03F7/20
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
林镒珠
主权项
地址
日本
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