含芳香族磺酸酯化合物及藉光发生酸剂的下层防反射膜形成用组成物

摘要

本发明系提供一种使用于半导体装置制造时，且形成微影制程之可由光阻用的硷性显像液显像之下层防反射时的下层防反射膜形成用组成物、及其使用该下层防反射膜形成用组成物之光阻图型形成方法。该下层防反射膜形成用组成物为含有聚醯胺酸、具有2个以上的环氧基之交联性化合物、芳香族磺酸酯化合物、光酸产生剂及溶剂者。