乾式UV光基板洗净设备及方法APPARATUS AND METHOD FOR DRY CLEANING A SUBSTRATE BY UV LIGHT

摘要

本发明揭示一种乾式UV光基板洗净方法，包含将一基板置于一密闭空间；将一清洗气体以垂直于该基板的一待清洗表面的方向导入该密闭空间；将一UV光垂直照射于该基板的持清洗表面上；及由该基板下方及围绕待清洗表面的渠道从该密闭空间抽气，于是将该清洗气体及承载于其中的被清洗出来的污染物移出该封闭空间。本发明亦揭示一种乾式UV光基板洗净设备。