| 发明名称 | 低压处理机台 | ||
| 摘要 | 一种低压处理机台，包括一基座、一承载盘、一壳体以及至少一第一滚轮组。承载盘设于该基座之上，用以置放一基板。壳体以可脱离的方式设于该基座之上，该壳体可以于一第一位置以及一第二位置之间移动，当该壳体位于该第一位置时，该壳体与该基座构成一腔体，该承载盘位于该腔体之中。当欲拆卸该壳体时，该第一滚轮组可接触并支撑该壳体，并帮助该壳体沿一第一水平方向滑动。 | ||
| 申请公布号 | CN1793763A | 申请公布日期 | 2006.06.28 |
| 申请号 | CN200610000520.8 | 申请日期 | 2006.01.09 |
| 申请人 | 广辉电子股份有限公司 | 发明人 | 黄庭辉 |
| 分类号 | F26B5/04(2006.01);F26B9/06(2006.01) | 主分类号 | F26B5/04(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李强 |
| 主权项 | 1.一种低压处理机台，用以处理一基板，包括：一基座；一承载盘，设于该基座之上，用以置放该基板；一壳体，以可脱离的方式设于该基座之上，该壳体可以于一第一位置以及一第二位置之间移动，当该壳体位于该第一位置时，该壳体与该基座构成一腔体，该承载盘位于该腔体之中；以及至少一第一滚轮组，其中，当欲拆卸该壳体时，该第一滚轮组可接触并支撑该壳体，并帮助该壳体沿一第一水平方向滑动。 | ||
| 地址 | 台湾省桃园县 | ||