等离子体装置,用于等离子体装置的气体分布组件及其方法

摘要

一种等离子体装置、等离子体装置的各种构件以及无氧且无氮的方法，用于自含有碳及/或氢的低k介电层的基板有效移除光致抗蚀剂材料以及蚀刻后的残留物。

主权项

1.一种轴向流下游等离子体处理装置，用于处理一基板，其以组合形式包含：气体源；等离子体产生构件，流体连通于该气体源，该等离子体产生构件包含等离子体管与耦接至该等离子体管的等离子体产生器，以自该气体源在该等离子体管内产生等离子体；处理室，流体连通于该等离子体管，在该处理室的入口附近包含一挡板组件，其中，该挡板组件包含大致平坦的上挡板，该上挡板固定定位于一大致平坦的下挡板上方，该下挡板包含设于一中央轴周围的多个孔洞，该多个孔洞各个的尺寸自该中央轴至该下挡板的外缘增大，且该挡板组件定位为大致平行于该基板；及排放导管，居中位于该处理室的一底壁。