| 发明名称 | 光波导结构 | ||
| 摘要 | 按照本发明的波导结构(200)包括：芯层(210)，包层(206)和缓冲层(208)。子区域(204)形成在包层(206)而不是在芯层(210)中。在一维应用中，子区域是缝隙；在二维应用中，子区域是杆。在杆或缝隙中利用空气填充或利用充填材料(例如，Si)填充。充填材料提高子区域(204)与芯层(210)之间的介电常数对比度。子区域(204)还可以形成在与芯层相邻的缓冲层部分。在缓冲层的缝隙或杆中利用空气填充或利用充填材料填充。可以确保模被基本完全地限制在芯层中，而在光子带结构区内仍然保持与场相互作用的能力。在基本不影响模限制的情况下，可以与包层(或缓冲层)中的倏逝场相互作用，而不是扰动大部分的光场(它被限制在芯层内)。 | ||
| 申请公布号 | CN1795406A | 申请公布日期 | 2006.06.28 |
| 申请号 | CN200480014101.9 | 申请日期 | 2004.04.23 |
| 申请人 | MESO光子学有限公司 | 发明人 | 麦杰德·祖罗博;马丁·查尔顿;格里戈·帕克 |
| 分类号 | G02B6/12(2006.01) | 主分类号 | G02B6/12(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 蒋世迅 |
| 主权项 | 1.一种有芯层和包层的平面波导结构，包层包括：第一折射率ncladding的第一区，和其中形成的具有第二折射率nsub的子区域阵列，子区域没有延伸进入芯层，子区域阵列导致光子带结构区，该结构区有效地扰动光信号传播通过芯层的倏逝场，其中当光信号传播通过光子带结构区时，作用在该信号上的有效模折射率对比度大于0.1％。 | ||
| 地址 | 英国南安普敦 | ||