| 发明名称 | 涂覆特殊光学涂层的方法 | ||
| 摘要 | 在由本发明设备实施的本发明方法中，用来使基底(10)的机械性能与涂覆在过渡层(12)上的层体系(16)的机械性能相匹配的过渡层(12)沉积在基底(10)的前表面(20)上。为此，在真空室(18)中进行的溅射过程中，反应产物(14)至少实质上仅掺入过渡层(12)中。这避免了真空室(18)的其它表面及基底(10)的背面(34)被反应产物(14)和/或其前体污染。 | ||
| 申请公布号 | CN1793420A | 申请公布日期 | 2006.06.28 |
| 申请号 | CN200510129124.0 | 申请日期 | 2005.11.04 |
| 申请人 | 萨蒂斯洛股份公司 | 发明人 | F·布雷姆 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01);C23C14/54(2006.01);C23C14/56(2006.01);G02B1/10(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 郭广迅;王景朝 |
| 主权项 | 1、一种利用靶(24)的离子增强原子化(溅射)向真空室(18)中的基底(10)的前表面(20)涂覆尤其是光学涂层的方法，其中为了在前面一侧上形成特别用于使基底(10)的机械性能与涂覆于其上的层或层体系(16)的机械性能相匹配的过渡层(12)，将反应产物(14)的前体在涂覆过渡层(12)之前和/或之中通入真空室(18)，其反应产物掺入过渡层(12)，改变了过渡层(12)的机械性能，设定真空室(18)中气相前体的浓度，以便在同时没有溅射操作时基本上避免反应产物(14)和/或前体的沉积，并且在溅射中，反应产物(14)和/或前体至少实质上仅在相对靶(24)的区域，优选在基底(10)的前表面(20)上沉积。 | ||
| 地址 | 瑞士巴尔 | ||