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发明名称 METHOD OF FORMING AN ISOLATION LAYER IN A SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20060070731(A) 申请公布日期 2006.06.26
申请号 KR20040109315 申请日期 2004.12.21
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 LEE, SUNG HOON
分类号 H01L21/762 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
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