| 发明名称 | 产光酸聚合物、其制法及包含它的顶部抗反射涂布组合物 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种由右式1表示的产光酸聚合物其中R<SUB>1</SUB>为C<SUB>1－10</SUB>烃或其中氢原子全部地或部分地经氟原子取代的C<SUB>1－10</SUB>烃；R<SUB>2</SUB>为氢或甲基；及a、b、c与d表示各单体的摩尔分数且为约0.05至约0.9，使得a、b、c与d的和等于1。因为式1的产光酸聚合物为非水溶性且用作产光酸剂，其可用于制备用于浸渍蚀刻法的顶部抗反射涂布组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN1789294A | 申请公布日期 | 2006.06.21 |
| 申请号 | CN200510092116.3 | 申请日期 | 2005.08.19 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 郑傤昌;卜喆圭;林昌文;文承灿 |
| 分类号 | C08F220/10(2006.01);C08F220/52(2006.01);C08F232/08(2006.01);C08F4/32(2006.01);G03F7/11(2006.01) | 主分类号 | C08F220/10(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 封新琴;巫肖南 |
| 主权项 | 1.一种由下式1表示的产光酸聚合物：<img file="A2005100921160002C1.GIF" wi="1030" he="538" />其中R<sub>1</sub>为C<sub>1-10</sub>烃或其中氢原子全部地或部分地被氟原子取代的C<sub>1-10</sub>烃；R<sub>2</sub>为氢或甲基；及a、b、c与d表示各单体的摩尔分数且为约0.05至约0.9，使得a、b、c与d的和等于1。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||