| 发明名称 |
METHOD FOR MANUFACTURING INTER-METAL DIELECTRIC LAYER OF THE SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20060066801(A) |
申请公布日期 |
2006.06.19 |
| 申请号 |
KR20040105271 |
申请日期 |
2004.12.14 |
| 申请人 |
DONGBU ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
CHO, GYUNG SU |
| 分类号 |
H01L21/316;H01L21/304;H01L21/3205 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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