形成光阻图案的方法以及修整光阻图案的方法

摘要

一种形成光阻图案的方法，此方法系首先在基底上形成光阻层，之后对光阻层进行一曝光制程。接着，进行一显影制程以使光阻层形成一图案化光阻层。然后，对此图案化光阻层进行多重修整步骤，其中此重修整步骤包括进行至少一次的硷性溶液处理步骤以及／或是至少一次的中性溶液处理步骤，以改善光阻图案之轮廓粗糙度、关键尺寸均匀度以及关键尺寸缩小化。