发明名称 具有减少条纹之研磨垫之制法
摘要 本发明系提供一种化学机械研磨垫之制法,包括提供备有聚合物材料之储槽以及提供备有具初始体密度(bulk density)之微球之储存料斗,其中储存料斗进一步包括设在强制送风系统(plenum)上之多孔膜(porous membrone)。此方法进一步提供经由气体输入管线使流体化气体源连接于强制送风系统之步骤以及藉由将气体馈入强制送风系统中而使微球流体化并减少初始体密度之步骤。此外,此方法还进一步提供下述步骤:提供输送系统以将聚合物材料及微球输送至混合器,形成聚合物材料与微球之混合物,然后将混合物倒入模具中以形成模制产物,再将模制产物切割成研磨垫。
申请公布号 TW200618947 申请公布日期 2006.06.16
申请号 TW094131772 申请日期 2005.09.15
申请人 罗门哈斯电子材料CMP控股公司 发明人 可塔斯;雷菲顿;诺顿 卡里-伊尔;诺菲伯尔;罗伯森;赛肯
分类号 B24D3/34;B24B37/04 主分类号 B24D3/34
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 美国