| 摘要 |
本发明之目的在于提供不使微影系统原本的生产量下降可进行批件内的各基板的重合检查，且对曝光工程的补正也能维持可使用高的精度的重合检查系统。因此，具备：组装于由搬送容器14取出的基板10A至少经过曝光工程与显像工程回收到搬送容器为止的路径，令经显像工程后的基板的重合检查，根据特定之条件进行，以其结果作为曝光工程的补正用而输出的第1检查装置11；和配置在前述路径之外，经过第1检查装置回收到搬送容器后的基板改由该搬送容器取出时，进行该基板的重合检查的第2检查装置12；和比较藉由第1检查装置的检查结果与藉由第2检查装置的检查结果，补正藉由第1检查装置的重合检查的条件的手段12。 |
