发明名称 Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
摘要
申请公布号 EP1170635(B1) 申请公布日期 2006.06.07
申请号 EP20010305740 申请日期 2001.07.03
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 KRIKKE, JAN JAAP;EURLINGS, MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS;HOEGEE, JAN;VAN DER VEEN, PAUL
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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