扫描式曝光设备

摘要

本发明之扫描式曝光设备100，其光罩102的雷射光照射区域103内之图型系由缩小投影光学系统104缩小为1／8，投影至载于晶圆台106之晶圆105上。于光罩台101扫描之等速冲程约为530mm，系知曝光设备约140mm之4倍。以此，光罩102内之扫描区域之大小足以涵盖528mm长度。如此，以缩小投影光学系统104形成之晶圆105的曝光区域于X方向可确保达66mm。