发明名称 |
一种发光二极管结构及其生长方法 |
摘要 |
本发明提供了一种外延生长的LED结构及其生长方法,在传统的LED结构:衬底层上的缓冲层、uGaN层、n型GaN∶Si层、复合量子阱层-垒层、p型GaN∶Mg层的基础上,通过生长不掺杂的uGaN隔层而使阱层与垒层被隔开,从而在界面处将复合量子阱层与垒层从物理上分隔开。结果表明,通过本发明的生长方法所产生的LED结构与现有技术的LED相比,可以显著地降低LED芯片的反向漏电电流Ir,并提高LED芯片的良品率。本发明可用于制造各种波长的GaN基LED。 |
申请公布号 |
CN1779998A |
申请公布日期 |
2006.05.31 |
申请号 |
CN200410052325.0 |
申请日期 |
2004.11.19 |
申请人 |
方大集团股份有限公司 |
发明人 |
刘明德;严志军 |
分类号 |
H01L33/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L33/00(2006.01) |
代理机构 |
深圳市顺天达专利商标代理有限公司 |
代理人 |
郭伟刚 |
主权项 |
1、一种发光二极管结构,包括衬底层上的缓冲层、uGaN层、n型GaN:Si层、复合量子阱层-垒层、以及p型GaN:Mg层,其特征在于,通过加入uGaN隔层而使所述阱层与垒层被隔开。 |
地址 |
518055广东省深圳市南山区西丽镇龙井方大工业城 |