发明名称 一种发光二极管结构及其生长方法
摘要 本发明提供了一种外延生长的LED结构及其生长方法,在传统的LED结构:衬底层上的缓冲层、uGaN层、n型GaN∶Si层、复合量子阱层-垒层、p型GaN∶Mg层的基础上,通过生长不掺杂的uGaN隔层而使阱层与垒层被隔开,从而在界面处将复合量子阱层与垒层从物理上分隔开。结果表明,通过本发明的生长方法所产生的LED结构与现有技术的LED相比,可以显著地降低LED芯片的反向漏电电流Ir,并提高LED芯片的良品率。本发明可用于制造各种波长的GaN基LED。
申请公布号 CN1779998A 申请公布日期 2006.05.31
申请号 CN200410052325.0 申请日期 2004.11.19
申请人 方大集团股份有限公司 发明人 刘明德;严志军
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 代理人 郭伟刚
主权项 1、一种发光二极管结构,包括衬底层上的缓冲层、uGaN层、n型GaN:Si层、复合量子阱层-垒层、以及p型GaN:Mg层,其特征在于,通过加入uGaN隔层而使所述阱层与垒层被隔开。
地址 518055广东省深圳市南山区西丽镇龙井方大工业城