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发明名称
Plasma source coil and plasma chamber using the same
摘要
申请公布号
KR100584119(B1)
申请公布日期
2006.05.30
申请号
KR20040021578
申请日期
2004.03.30
申请人
发明人
分类号
H01L21/205
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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