发明名称 |
铜铟镓的硒或硫化物半导体薄膜材料的制备方法 |
摘要 |
本发明涉及铜铟镓的硒或硫化物半导体薄膜材料的制备方法,是在铜铟镓硒或/和硫光学吸收层薄膜的制备工艺中,先用真空磁控溅射、加热蒸发或化学水浴电沉积法在钠钙玻璃Mo衬底上分步沉积化学式配比量的Cu、In、Ga金属预制层,再在热处理真空室内进行光硒化或/和硫化反应,其特征在于:对沉积有铜铟镓金属预制层的电池基板双面同时加热,电池基板的背部一面用接触式热源加热,镀覆金属预制层的基板-面用光辐照加热,在其快速、均匀地升温到400~560℃区间时,对硒源或硫源进行接触式热源和光辐照的协同加热,促使铜铟镓金属预制层转变成化合物半导体光电薄膜材料。本发明方法克服了600℃高温硒化或硫化造成的玻璃软化,适合于工业化生产。 |
申请公布号 |
CN1257560C |
申请公布日期 |
2006.05.24 |
申请号 |
CN200310107202.8 |
申请日期 |
2003.12.05 |
申请人 |
南开大学 |
发明人 |
孙云;李长健;刘唯一;何清;李凤岩;周志强;敖建平;孙国忠 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01);H01L31/042(2006.01);H01L21/36(2006.01);C23C14/34(2006.01);C23C14/06(2006.01) |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01) |
代理机构 |
天津市学苑有限责任专利代理事务所 |
代理人 |
胡安朋 |
主权项 |
1.铜铟镓的硒或/和硫化物半导体光电薄膜材料的制备方法,是在铜铟镓硒或/和硫光学吸收层薄膜的制备工艺中,先用真空磁控溅射、加热蒸发或化学水浴电沉积法在钠钙玻璃Mo衬底上分步沉积化学式配比量的Cu、In、Ga金属预制层,再在热处理真空室内进行光硒化或/和硫化反应,其特征在于:对沉积有铜铟镓金属预制层的电池基板双面同时加热,电池基板的背部一面用接触式热源加热,镀覆金属预制层的基板一面用波长在红外至紫外区间的光辐照加热,在其快速、均匀地升温到400~560℃区间时,对硒源或硫源进行接触式热源和光辐照的协同加热。 |
地址 |
300071天津市卫津路94号 |