| 发明名称 | MGd<SUB> (1－x)</SUB>SiO<SUB>4</SUB>:A<SUB>x</SUB>发光薄膜及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种MGd<SUB> (1－x)</SUB>SiO<SUB>4</SUB>:A<SUB>x</SUB>发光薄膜及其制备方法。其发光薄膜化学表达式为：MGd<SUB> (1－x)</SUB>SiO<SUB>4</SUB>:A<SUB>x</SUB>，其中，M为Na，Li中的一种元素，A为Pr，Eu，Er，Tm，Ce，Lu，Nd，Sm中的一种元素，0.001＜x≤0.5，其特征在于所说的原料选用纯度为99.99％的Na<SUB>2</SUB>CO<SUB>3</SUB>，Li<SUB>2</SUB>CO<SUB>3</SUB>，Gd<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>，SiO<SUB>2</SUB>，Pr<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>，Eu<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>，Er<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>，Tm<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>，Ce<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>，Lu<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>，Nd<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>，Sm<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>，溶剂为水和乙醇；本发明还提供了该发光薄膜制备方法。本发明制备的发光薄膜表面均匀、致密无开裂；薄膜颗粒大小均匀，而且薄膜的厚度可以控制；薄膜的发光性能优良；本发明的发光薄膜可用于制作场发射显示器的显示屏，该显示屏不但能够克服现有技术的缺点，而且还具有热稳定性高、放气率小、附着力强、表面平整度高等优点。 | ||
| 申请公布号 | CN1775998A | 申请公布日期 | 2006.05.24 |
| 申请号 | CN200510122038.7 | 申请日期 | 2005.11.30 |
| 申请人 | 天津理工大学 | 发明人 | 张晓松;李岚;王达健 |
| 分类号 | C23C14/08(2006.01);C23C14/30(2006.01);C23C14/54(2006.01) | 主分类号 | C23C14/08(2006.01) |
| 代理机构 | 天津佳盟知识产权代理有限公司 | 代理人 | 廖晓荣 |
| 主权项 | 1 一种MGd(1-x)SiO4:Ax发光薄膜，其特征在于所说的原料选用纯度为99.99％的Na2CO3，Li2CO3，Gd2O3，SiO2，Pr2O3，Eu2O3，Er2O3，Tm2O3，Ce2O3，Lu2O3，Nd2O3，Sm2O3，溶剂为水和乙醇；所制备发光薄膜的化学表达式为：MGd(1-x)SiO4:Ax 其中，M为Na或Li中的一种元素，A为Pr，Eu，Er，Tm，Ce，Lu，Nd或Sm中的一种元素， 0.001＜x≤0.5。 | ||
| 地址 | 300191天津市南开区红旗南路263号 | ||