| 发明名称 | 抗蚀剂组合物及成形方法 | ||
| 摘要 | 使用具有丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯单体单元的聚合物获得了可在低的能级下用193nm照射(并且可能是其他的照射)成像的酸催化的正性抗蚀剂组合物，其中该单体单元包括优选连接到萘酯基团上的低活化能部分。该抗蚀剂允许了具有低活化能的丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯聚合物用于成像的性能优势，由此允许了提高的分辨率和降低的后曝光烘焙敏感性。该抗蚀剂聚合物还优选含有包括氟代醇部分的单体单元和包括内酯部分的单体单元。 | ||
| 申请公布号 | CN1773377A | 申请公布日期 | 2006.05.17 |
| 申请号 | CN200510119432.5 | 申请日期 | 2005.11.11 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | M·霍贾斯特;陈光荣;P·R·瓦拉纳斯 |
| 分类号 | G03F7/039(2006.01);G03F7/027(2006.01);G03F7/038(2006.01) | 主分类号 | G03F7/039(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 刘明海 |
| 主权项 | 1.一种抗蚀剂组合物，其包括：(a)酸敏感的丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯成像聚合物，和(b)照射敏感的酸产生剂，该成像聚合物包括：i)各自具有抑制在含水碱性溶液中溶解性的悬垂的低活化能酸不稳定部分的丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯单体单元。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||