| 发明名称 | 立式热处理装置和被处理体移送方法 | ||
| 摘要 | 在立式热处理装置中，通过被处理体收纳容器(托架)(16)和环状支撑板(15)在与上下方向隔开间隔保持多个被处理体的被处理体保持工具(舟皿)(9)之间移送被处理体的改良移送机构(21)，具有多个基板支撑工具(20)，各基板支撑工具包括在下侧夹紧被处理体W的夹紧机构(28)，各夹紧机构具有固定在基板支撑工具前端卡止被处理体W前缘部的固定卡止部(30)；和可移动设在基板支撑工具(20)基端部来可装卸卡止被处理体W后缘部的可动卡止部(31)。能同时迅速可靠移送多个被处理体W。利用夹紧机构的结构，可减小基板支撑工具的厚度和环状支撑板的配置间距，可增大在热处理炉内一次处理的被处理体W的片数，可提高生产率。 | ||
| 申请公布号 | CN1774607A | 申请公布日期 | 2006.05.17 |
| 申请号 | CN200580000305.1 | 申请日期 | 2005.03.25 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 浅利聪;三原胜彦;菊池浩 |
| 分类号 | F27B5/12(2006.01);B65G49/07(2006.01);F27B5/13(2006.01);F27D3/12(2006.01);H01L21/22(2006.01);H01L21/68(2006.01) | 主分类号 | F27B5/12(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种立式热处理装置，其特征在于，包括：下部具有炉口的热处理炉；密闭所述炉口的盖体；设在所述盖体上、通过环状支撑板而在上下方向以规定间隔保持多片被处理体的保持工具；使所述盖体升降而将保持工具搬入搬出热处理炉的升降机构；和具有隔开规定间隔而配置的多个基板支撑工具，在以规定间隔收纳多个被处理体的收纳容器和所述保持工具之间移送被处理体的移送机构，其中，所述移送机构在所述各基板支撑工具的下侧具有夹紧被处理体的夹紧机构，所述夹紧机构具有固定设置在所述各基板支撑工具的前端部来卡止被处理体的前缘部的固定卡止部、和可移动地安装在所述各基板支撑工具的基端部上来可装卸地卡止被处理件的后缘部的可动卡止部。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||