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发明名称
自动将光罩除尘之曝光制程以及具有光罩除尘装置之运送架
摘要
本发明揭示一种自动将光罩除尘之曝光制程,包含:将基板送入曝光室中;利用该曝光室之光罩对该基板进行曝光;以一运送架沿着该光罩下方将完成曝光之该基板送出该曝光室,其中沿着该运送架之一边缘设有一除尘装置,该边缘远离于运送基板之方向,其中该除尘装置包括一具有除尘毛刷之可转动式抗静电棒。以及,移动该运送架进出该曝光室至少一次,以利用该除尘毛刷除去光罩上之异物。
申请公布号
TW200615699
申请公布日期
2006.05.16
申请号
TW093133471
申请日期
2004.11.03
申请人
日月光半导体制造股份有限公司
发明人
郑力元
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
洪澄文;颜锦顺
主权项
地址
高雄市楠梓区加工出口区经三路26号
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