发明名称 自动将光罩除尘之曝光制程以及具有光罩除尘装置之运送架
摘要 本发明揭示一种自动将光罩除尘之曝光制程,包含:将基板送入曝光室中;利用该曝光室之光罩对该基板进行曝光;以一运送架沿着该光罩下方将完成曝光之该基板送出该曝光室,其中沿着该运送架之一边缘设有一除尘装置,该边缘远离于运送基板之方向,其中该除尘装置包括一具有除尘毛刷之可转动式抗静电棒。以及,移动该运送架进出该曝光室至少一次,以利用该除尘毛刷除去光罩上之异物。
申请公布号 TW200615699 申请公布日期 2006.05.16
申请号 TW093133471 申请日期 2004.11.03
申请人 日月光半导体制造股份有限公司 发明人 郑力元
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 高雄市楠梓区加工出口区经三路26号