发明名称 有机金属化学气相淀积法用原料液及使用该原料液之含Hf-Si复合氧化物膜的制造方法
摘要 本发明系提供具有高成膜速度MOCVD法用原料液及使用该原料液之含Hf–Si复合氧化物膜之制造方法。并提供使用与基质之密接性良好的MOCVD法用原料液之含Hf–Si复合氧化物膜之制造方法。本发明之MOCVD法用原料液之特征在于(R^1R^2N)nSiH(4–n)所示之有机Si化合物以设定之比率混合者。有机Si化合物与有机Hf化合物之混合比率系以重量比(有机Hf化合物/有机Si化合物)为0.001~0.5重量%之范围内。进而,本发明之MOCVD法用原料液之特征在于,将在以上述范围内之重量比混合之有机Hf化合物溶解于有机Si化合物中,将此溶解液在20~100℃加热予以调制者。
申请公布号 TW200615393 申请公布日期 2006.05.16
申请号 TW094130173 申请日期 2005.09.02
申请人 三菱综合材料股份有限公司 发明人 柳泽明男;斋笃;曾山信幸
分类号 C23C16/18 主分类号 C23C16/18
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本