控制介电抗反射层特性的方法及介电抗反射层的制造方法

摘要

一种控制介电抗反射层特性的方法之特征在于形成此种介电抗反射层时，于含矽气体源与氧气体源所组成的反应气体中加入一含氮气体源，以控制介电抗反射层的n值，并选择增加此含矽气体源对氧气体源或对含氮气体源的比例，以控制介电抗反射层的k值。因此，藉由可控制介电抗反射层的n值和k值，使此介电抗反射层达到最低底层反射的效果。