发明名称 可降低位元线电流之磁性随机存取记忆体及其制造方法
摘要 一种可降低位元线电流之磁性随机存取记忆体及其制造方法,一实施例包括有一下电极、一第一介电层形成于下电极之上、一介层窗于形成第一介电层中、一磁性接面元件对准地形成于介层窗之上、以及一金属层接触地形成于磁性接面元件之上;另一包括有一下电极、一第一介电层形成于下电极之上、一介层窗于形成第一介电层中、一磁性接面元件对准地形成于介层窗之上、一第二介电层形成于第一介电层之上、以及一金属层接触地形成于磁性接面元件与第二介电层之上。其可避免磁性记忆胞因后续蚀刻制程而被损坏,进而提升制程稳定度及良率,并具有降低驱动磁性记忆胞所须之电流及消耗功率之优点。
申请公布号 TW200616203 申请公布日期 2006.05.16
申请号 TW093134144 申请日期 2004.11.09
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 何青原
分类号 H01L27/04 主分类号 H01L27/04
代理机构 代理人
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号