发明名称 | 可降低位元线电流之磁性随机存取记忆体及其制造方法 | ||
摘要 | 一种可降低位元线电流之磁性随机存取记忆体及其制造方法,一实施例包括有一下电极、一第一介电层形成于下电极之上、一介层窗于形成第一介电层中、一磁性接面元件对准地形成于介层窗之上、以及一金属层接触地形成于磁性接面元件之上;另一包括有一下电极、一第一介电层形成于下电极之上、一介层窗于形成第一介电层中、一磁性接面元件对准地形成于介层窗之上、一第二介电层形成于第一介电层之上、以及一金属层接触地形成于磁性接面元件与第二介电层之上。其可避免磁性记忆胞因后续蚀刻制程而被损坏,进而提升制程稳定度及良率,并具有降低驱动磁性记忆胞所须之电流及消耗功率之优点。 | ||
申请公布号 | TW200616203 | 申请公布日期 | 2006.05.16 |
申请号 | TW093134144 | 申请日期 | 2004.11.09 |
申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 何青原 |
分类号 | H01L27/04 | 主分类号 | H01L27/04 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |