| 摘要 |
本发明系一种正型光阻材料，其系含有：以含有下述式(1a)之exo体之酯基的单元A及具有下述式(1b)之具有2个六氟异丙醇基之酯基的单元B作为构成单元的高分子化合物，094111228-p01.bmp(式中，R^1、R^2表示H、CH3或CH2CO2R^14；R^13表示烷基或芳基；R^4～R^9及R^12、R^13系H或1价烃基，R^10、R^11表示H或形成环，或形成双键；R^14表示H或烷基；上述式也可表示镜像体)094111228-p02.bmp(式中，R^15表示H、CH3，R^16、R^17系H或酸不安定基)。本发明之正型光阻材料系高感度，且具有高解像性，线边缘粗糙度小，适用于制造超LSI用之微细图型形成材料。 |
