| 发明名称 | 用于防止液晶显示器件中的断开的结构及其制造方法 | ||
| 摘要 | 用于防止液晶显示器件中的断开的结构及其制造方法。一种制造LCD器件的方法包括：在绝缘基板上形成有源层；在绝缘基板的表面上形成栅绝缘层；在栅绝缘层上形成选通线和栅电极；在栅电极以及选通线和数据线交叉点处的选通线上形成光致抗蚀剂图形；使用光致抗蚀剂图形作为掩模将杂质离子注入到有源层内，以形成源和漏区；除去光致抗蚀剂图形；在绝缘基板的整个表面上形成层间绝缘层，层间绝缘层具有露出源和漏区的预定部分的第一接触孔；在层间绝缘层上形成电连接到源区并在上方与选通线交叉的数据线；形成漏电极；在绝缘基板的表面上形成钝化层，钝化层具有露出漏电极的预定部分的第二接触孔；形成通过第二接触孔与漏区电连接的像素电极。 | ||
| 申请公布号 | CN1479146A | 申请公布日期 | 2004.03.03 |
| 申请号 | CN03138607.5 | 申请日期 | 2003.05.28 |
| 申请人 | LG.飞利浦LCD有限公司 | 发明人 | 黄旷兆 |
| 分类号 | G02F1/136;H01L29/786;G03F7/00 | 主分类号 | G02F1/136 |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李辉 |
| 主权项 | 1.一种制造具有选通线和数据线的LCD器件的方法，包括：在绝缘基板上形成有源层；在包括有源层的绝缘基板的表面上形成栅绝缘层；在栅绝缘层上形成选通线和栅电极，以便栅电极位于有源层上方；在栅电极以及选通线和数据线交叉点处的选通线上形成光致抗蚀剂图形，其中光致抗蚀剂图形围绕栅电极和选通线；使用光致抗蚀剂图形作为掩模将杂质离子注入到有源层内，以在有源层中形成源和漏区；除去光致抗蚀剂图形；在绝缘基板的整个表面上形成层间绝缘层，层间绝缘层具有露出源和漏区的预定部分的第一接触孔；在层间绝缘层上形成电连接到源区并在上方与选通线交叉的数据线；形成漏电极；在绝缘基板的表面上形成钝化层，钝化层具有露出漏电极的预定部分的第二接触孔；以及形成通过第二接触孔与漏区电连接的像素电极。 | ||
| 地址 | 韩国汉城 | ||