发明名称 |
场效应电晶体,半导体元件,及其等制造方法,暨半导体之结晶成长方法 |
摘要 |
本发明之目的系提高场效应电晶体中通道之载体(2次元电子气体)之迁移率,藉此达到元件特性之改善。本发明之解决手段系一种场效应电晶体,其系具有由第Ⅲ族氮化物系化合物半导体所构成之缓冲层和障蔽层,而在上述缓冲层相对于上述障蔽层之界面侧形成通道者,其特征为,上述障蔽层系具有多层构造,该多层构造具备:急遽界面提供层,其构成障蔽层内之最下层之半导体层,急遽地形成与缓冲层间之界面之组成变化;以及电极连接面提供层,其构成障蔽层内之最上层之半导体层,顶面系大致平坦地形成。 |
申请公布号 |
TW200616098 |
申请公布日期 |
2006.05.16 |
申请号 |
TW094119288 |
申请日期 |
2005.06.10 |
申请人 |
豊田合成股份有限公司 |
发明人 |
平田宏治;小 正芳;千田昌伸;柴田直树 |
分类号 |
H01L21/338;H01L29/778;H01L29/812 |
主分类号 |
H01L21/338 |
代理机构 |
|
代理人 |
赖经臣;宿希成 |
主权项 |
|
地址 |
日本 |