发明名称 场效应电晶体,半导体元件,及其等制造方法,暨半导体之结晶成长方法
摘要 本发明之目的系提高场效应电晶体中通道之载体(2次元电子气体)之迁移率,藉此达到元件特性之改善。本发明之解决手段系一种场效应电晶体,其系具有由第Ⅲ族氮化物系化合物半导体所构成之缓冲层和障蔽层,而在上述缓冲层相对于上述障蔽层之界面侧形成通道者,其特征为,上述障蔽层系具有多层构造,该多层构造具备:急遽界面提供层,其构成障蔽层内之最下层之半导体层,急遽地形成与缓冲层间之界面之组成变化;以及电极连接面提供层,其构成障蔽层内之最上层之半导体层,顶面系大致平坦地形成。
申请公布号 TW200616098 申请公布日期 2006.05.16
申请号 TW094119288 申请日期 2005.06.10
申请人 豊田合成股份有限公司 发明人 平田宏治;小 正芳;千田昌伸;柴田直树
分类号 H01L21/338;H01L29/778;H01L29/812 主分类号 H01L21/338
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项
地址 日本