| 发明名称 |
POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20060044477(A) |
申请公布日期 |
2006.05.16 |
| 申请号 |
KR20050023158 |
申请日期 |
2005.03.21 |
| 申请人 |
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. |
发明人 |
HASEGAWA KOJI;NISHI TSUNEHIRO;TACHIBANA SEIICHIRO |
| 分类号 |
G03F7/033;G03F7/039;C08F220/26;C08F220/28;G03C1/492;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/033 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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