发明名称 |
DOUBLE-LAYER SHUTTER CONTROL METHOD OF MULTI-SPUTTERING SYSTEM |
摘要 |
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申请公布号 |
KR20060044320(A) |
申请公布日期 |
2006.05.16 |
申请号 |
KR20050020673 |
申请日期 |
2005.03.11 |
申请人 |
CANON ANELVA CORPORATION |
发明人 |
NOMURA SHUJI;MIYOSHI AYUMU;MIKI HIROSHI |
分类号 |
C23C14/34;C23C14/32;C23C14/54;C23C14/56 |
主分类号 |
C23C14/34 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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